Инновационный метод делает процесс производства микрочипов эффективнее
Для создания микрочипов электроники прибегли к травлению атомного слоя кремнием попеременным воздействием двух компонентов: газообразным хлором и ионами аргоновой плазмы. Исследователи Принстонской лаборатории физики плазмы поставили перед собой задачу создать микрочипы.
Для создания микрочипов электроники прибегли к травлению атомного слоя кремнием попеременным воздействием двух компонентов: газообразным хлором и ионами аргоновой плазмы. Исследователи Принстонской лаборатории физики плазмы поставили перед собой задачу создать микрочипы.
